半導體工業是現代工業的重要組成部分，其生產過程中會產生大量的廢氣。其中，含砷廢氣是一種難以處理的有毒廢氣，因其含有高濃度的砷元素，對人體和環境造成的危害性非常大。因此，半導體含砷廢氣的治理一直是工業領域的難題。

半導體含砷廢氣的主要成分是砷化氫（sH3）和三甲基砷（TM）。其中，砷化氫是一種無色、有毒、易燃的氣體，具有極強的損傷作用，能破壞人體細胞的DN，導致中毒甚死亡；而三甲基砷則是一種有機砷化合物，同樣具有毒性。

半導體含砷廢氣的治理方法

半導體含砷廢氣的治理方法主要有物理吸附法、化學吸附法、吸收法、燃燒法、光解法、等離子體法等。

1.物理吸附法

物理吸附法是利用吸附劑對含砷廢氣進行吸附，將其轉化為固體或液體形態，物理吸附法具有操作簡單、設備投資少、運行成本低等優點，但其處理效果受環境溫度、濕度等因素的影響，處理后的吸附劑難以回收利用。

2.化學吸附法

化學吸附法是利用化學反應將含砷廢氣中的有害成分吸附在吸附劑上，以化學吸附法具有處理效率高、處理后的吸附劑易于處理等優點，但其成本較高，

3.吸收法

吸收法是利用吸收劑對含砷廢氣進行吸收，將其轉化為溶液形態，吸收法具有處理效率高、處理后的溶液易于處理等優點，但其運行成本較高，設備投資較大。

4.燃燒法

燃燒法是將含砷廢氣進行燃燒，將有害成分氧化為無害物質，燃燒法具有處理效率高、處理后的廢氣易于排放等優點，但其設備投資較大，

5.光解法

光解法是利用光線對含砷廢氣進行分解，將其轉化為無害物質，光解法具有處理效率高、操作簡單等優點，但其處理效果受光線強度、波長等因素的影響，且設備投資較大。

6.等離子體法

等離子體法是利用等離子體對含砷廢氣進行處理，將有害成分轉化為無害物質，等離子體法具有處理效率高、處理后的廢氣易于排放等優點，但其設備投資較大，

綜合來看，不同的半導體含砷廢氣治理方法各有優缺點。在實際應用中，應根據工業生產的具體情況和環保要求進行選擇。例如，對于處理量較大的含砷廢氣，可以選擇物理吸附法或化學吸附法；對于處理效果要求較高的含砷廢氣，則可以選擇吸收法、燃燒法或等離子體法。

半導體含砷廢氣的治理是一個復雜而重要的問題，需要綜合考慮工業生產的具體情況、環保要求以及治理方法的優缺點等多個方面。